PARTICLE REFERENCE WAFER

颗粒检测标准片

用于表面扫描与颗粒检测设备的校准和性能验证,支持颗粒材质、尺寸、数量与图案化分布定制。

40 nm–3 μm资料所示颗粒尺寸范围
1000–20000 颗资料所示颗粒数量范围
PSL / SiO₂典型颗粒材质
颗粒检测标准片产品图

Product Information

产品概述

颗粒尺寸与分布验证

用于颗粒检测设备校准与性能验证,可按颗粒材质、尺寸、数量、位置和分布方式进行设计。

技术特点

  • 支持聚苯乙烯乳胶颗粒与二氧化硅颗粒
  • 支持均匀分布、定点分布与多点图案化分布
  • 支持颗粒数量范围与晶圆区域定制
  • 重视分散效果与团聚控制

Product Information

典型产品与参数

典型型号颗粒类型资料所示规格适用方向
SGW9101-PSL聚苯乙烯乳胶颗粒颗粒尺寸覆盖多种规格;数量分布 1000–20000 颗表面扫描系列设备、颗粒检测与污染分析
定制颗粒标准片聚苯乙烯乳胶颗粒 / 二氧化硅颗粒尺寸、数量、位置与图案化分布按需求设计设备研发、校准、验收与稳定性验证

颗粒尺寸、数量、分布均匀性和校准证书要求需要在项目开始前明确。

Product Information

适用设备与场景

表面扫描设备验证不同颗粒尺寸的检测响应和统计能力。
颗粒检测设备用于颗粒数量、尺寸分档和位置分布测试。
表面污染分析系统用于污染响应、设备间比对和日常核查。

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产品与检测图示

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