DEFECT REFERENCE WAFER

缺陷检测标准片

用于自动光学检测设备与图形检测系统的校准、性能验证和缺陷响应测试,支持缺陷组合、膜层结构与检测光学适配。

20 nm资料所示最小缺陷尺寸
>150典型产品光学对比度
1000+缺陷组合设计能力
缺陷检测标准片产品图

Product Information

产品概述

面向设备校准与性能验证

该产品用于自动光学检测设备与图形检测系统的校准和性能验证。可结合不同检测光源,对缺陷结构、膜层组合与光学响应进行适配设计。

技术特点

  • 支持多类型缺陷组合与版图布局
  • 支持明场、暗场及多光源检测适配
  • 支持膜层结构和光学对比度优化
  • 支持按客户设备与检测目标开展定制

Product Information

典型产品与参数

典型型号产品定位资料所示参数适用方向
SGW5001主流产品光学对比度大于 150;缺陷覆盖 200 nm–50 μm主流自动光学检测与图形检测设备
SGW5002先进工艺光学对比度大于 130;缺陷覆盖 20 nm–500 nm小尺寸缺陷检测与先进工艺验证

具体对比度、缺陷尺寸、膜层结构与检测结果取决于设备光源、光学系统和最终技术方案。

Product Information

适用设备与场景

自动光学检测设备用于设备标定、缺陷响应验证和重复性测试。
图形检测系统用于图形区域、缺陷位置与版图响应测试。
前道工艺缺陷检测服务工艺研发、设备调试和客户验收。
明场与暗场检测设备根据照明方式与检测波长调整样片结构。

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产品与检测图示

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