CRITICAL DIMENSION CALIBRATION WAFER

关键尺寸标准片

用于关键尺寸扫描电子显微镜与线宽量测设备校准,支持线宽、间距与周期结构的高精度尺寸参考。

14 nm资料所示最小结构尺寸
±1 nm资料所示尺寸精度
Line / Space / Pitch典型样品结构
关键尺寸标准片产品图

Product Information

产品概述

高精度结构尺寸标准

用于关键尺寸扫描电子显微镜与关键尺寸量测设备校准,实现线宽、间距和周期结构的高精度尺寸参考。

核心工艺方向

  • 支持线宽、间距、周期等结构类型
  • 支持多种样品安装与量测区域设计
  • 支持高精度结构加工与共面结构设计
  • 适用于设备校准、验收与工艺尺寸比对

Product Information

典型产品与参数

典型型号标准结构尺寸精度应用领域
SGWC101资料示例为 100 nm 标准结构资料示例为 ±1 nm关键尺寸扫描电子显微镜校准、线宽检测与工艺尺寸校准

资料中展示最小结构尺寸 14 nm。实际可交付结构、测量不确定度与证书内容需按项目确认。

Product Information

适用设备与场景

关键尺寸扫描电子显微镜用于倍率、线宽与结构尺寸量测校准。
线宽检测设备用于线宽、间距与周期结构的量测验证。
工艺尺寸校准系统服务研发调试、设备间比对与客户验收。

Product Images

产品与检测图示

需要确认关键尺寸标准片规格?

请提供设备类型、目标指标、晶圆尺寸与应用场景,以便进一步确认技术方案。

联系韩广强